(CercleFinance.com) - Riber annonce la livraison de son système robotisé dédié au traitement des tranches semi-conducteur de 300 millimètres, baptisé Mpvd300. Il s'agit d'un réacteur spécialement conçu pour la production sous ultra-vide de films très minces de métaux et d'oxydes.

Le leader mondial de l'épitaxie par jets moléculaires entend ainsi satisfaire la demande de nouveaux microprocesseurs ultra-rapides et de mémoires de grande capacité.

Basé sur la technique de dépôt en ultra-vide et compatible avec les standards de l'industrie du semi-conducteur silicium, le MPVD300 parvient à offrir une précision de contrôle 'inégalée' et des défauts d'uniformité de dépôt inférieurs à 1% sur une tranche de 300mm (précision à la couche monoatomique).

Entièrement automatisé, le Mpvd300 de Riber est le seul système de déposition sous ultravide conçu de façon modulaire et directement raccordable sur la chaîne de production robotisée, explique le groupe dans un communiqué.

Le premier exemplaire sera expédié en juillet à un fabriquant en Asie.

Ce développement démontre l'orientation de Riber vers le secteur de la production Silicium.

Parallèlement, Riber prépare le lancement d'un autre système à chambres multiples (système 'cluster') pour le développement de dispositifs optiques et haute fréquence en juillet.

Ce nouveau système augmentera la base installée des équipements cluster Riber, un concept qui a été conçu et présenté au marché par Riber il y a plusieurs années.

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